用于离子产生增强的设备和方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

这里所描述的发明提供了基于基质的离子源，其包括用于提供指定温度的加热气体至离子源电离区域的气体加热装置。所述离子源还可以包括温度传感器。所述加热装置和所述温度传感器可以可操作地连接以作为闭合的反馈回路工作，以提供预定恒温下的气体至所述电离区域。还公开了一种具有基于基质的离子源的质谱仪系统。此外提供了一种使用加热至预定温度的气体产生离子的方法。

基本信息

专利标题：

用于离子产生增强的设备和方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1933092A

申请号：

CN200610001970.9

公开（公告）日：

2007-03-21

申请日：

2006-01-23

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

蒂莫西·H·乔伊斯琼－鲁克·图克白建

申请人：

安捷伦科技有限公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司

代理人：

柳春雷

优先权：

CN200610001970.9

主分类号：

H01J49/10

IPC分类号：

H01J49/10 H01J49/26 G01N30/72