用于离子注入器的离子源
授权
摘要

提供了一种离子注入器,其包括源、工件支撑、和将离子从源传送到离子注入弧光室的传输系统,其中离子注入弧光室包括工件支撑。离子源具有弧光室,用于将引导至弧光室内的源材料离子化,弧光室限定有出口孔洞,以将离子引导至传输系统,弧光室包括弧光室凸缘,其与弧光室相连,并包括第一表面,第一表面限定了从源接受气体的气体入口,还限定了通向弧光室内的气体出口。弧光室支撑包括支撑凸缘,凸缘具有顺应表面,此顺应表面在气体入口区域与弧光室凸缘的第一表面密封接合,弧光室支撑还包括与气体入口对准的贯穿通道。气体供应管线将气体从气体源通过支撑凸缘的贯穿通道,引导至弧光室凸缘的气体入口内。

基本信息
专利标题 :
用于离子注入器的离子源
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101167154A
申请号 :
CN200680003793.6
公开(公告)日 :
2008-04-23
申请日 :
2006-01-31
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
K·贝克W·贝尔K·佩特利
申请人 :
艾克塞利斯技术公司
申请人地址 :
美国马萨诸塞州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
曾祥夌
优先权 :
CN200680003793.6
主分类号 :
H01J37/317
IPC分类号 :
H01J37/317  H01J27/02  H01J37/08  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的,如离子注入
法律状态
2010-10-13 :
授权
2008-06-18 :
实质审查的生效
2008-04-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332