离子注入真空室
视为撤回的专利申请
摘要
从承受离子注入基片的表面移走热量，该热量减小了整个操作的效率，热量的移走是借助于热传递管，管子一端支承被注入的基片，其另一端嵌入一恒温筒体的内空间，在那里它们被低于0℃的合适冷却介质所冷却。
基本信息
专利标题 ：
离子注入真空室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1043826A
申请号 ：
CN89109754.6
公开（公告）日 ：
1990-07-11
申请日 ：
1989-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
弗拉迪米尔·戴恩达卡雷尔·诺沃尼兹登内克·安布罗茨吉里·卡比切克
申请人 ：
特斯拉公司
申请人地址 ：
捷克布拉格
代理机构 ：
中国专利代理有限公司
代理人 ：
陈展元
优先权 ：
CN89109754.6
主分类号 ：
H01J37/317
IPC分类号 ：
H01J37/317 H01L21/265 C30B31/22
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入
法律状态
1992-10-07 ：
视为撤回的专利申请
1990-07-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
