一种离子源以及一种离子注入机
授权
摘要
本实用新型涉及一种离子源，包括：壳体，其具有可容纳离子源气体的第一空腔，其中所述壳体具有用于引入离子源气体的入口以及用于引出等离子体的出口；以及多孔层，其布置在壳体的第一空腔中，其中所述多孔层具有开放的孔隙，并且其中所述孔隙的直径在从所述入口到所述出口的方向上增大。通过该离子源，能够提高所生成的等离子体的均匀度，从而提高产品质量并减少因频繁调节电流频率造成的灯丝寿命损失，此外，还能够增加离子源气体的利用率，增加等离子体的生成速度。
基本信息
专利标题 ：
一种离子源以及一种离子注入机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920891415.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-13
授权号 ：
CN210040118U
授权日 ：
2020-02-07
发明人 ：
白晓鹏廖宜专吴宗祐林宗贤
申请人 ：
德淮半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮阴区长江东路599号
代理机构 ：
上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李镝的
优先权 ：
CN201920891415.0
主分类号 ：
H01J37/08
IPC分类号 ：
H01J37/08 H01J37/16 H01J37/317
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置
H01J37/08
离子源；离子枪
法律状态
2020-02-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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