一种高能离子注入机用的尖端场形负氢离子源装置
授权
摘要
本发明公开一种高能离子注入机用的尖端场形负氢离子源装置，包括防护罩、放电室、灯丝、永久磁铁、等离子体电极、引出电极、绝缘陶瓷和水冷口；灯丝为U型结构，顶部设计有电流接口；灯丝设计有绝缘结构，利用陶瓷支撑与放电室绝缘；放电室接地，顶部设计有进气管道和永磁铁，底部设计有等离子体电极和绝缘防护套；放电室外侧是多组永磁铁，每组磁铁分为六层；永磁铁外侧是设计有水冷结构。
基本信息
专利标题 ：
一种高能离子注入机用的尖端场形负氢离子源装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111681936A
申请号 ：
CN202010515865.7
公开（公告）日 ：
2020-09-18
申请日 ：
2020-06-09
授权号 ：
CN111681936B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
陈根宋云涛赵燕平毛玉周
申请人 ：
中国科学院合肥物质科学研究院
申请人地址 ：
安徽省合肥市庐阳区蜀山湖路350号
代理机构 ：
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 ：
顾炜
优先权 ：
CN202010515865.7
主分类号 ：
H01J37/08
IPC分类号 ：
H01J37/08 H01J37/317 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置
H01J37/08
离子源；离子枪
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-10-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/08
申请日 : 20200609
申请日 : 20200609
2020-09-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
