一种大面积靶片用离子注入系统及离子注入方法
公开
摘要
本发明提供一种大面积靶片用离子注入系统及离子注入方法，离子注入系统包括离子束产生模块、真空注入模块、装载模块和大气传送模块，离子束产生模块、真空注入模块、装载模块以及大气传送模块依次相连，即离子束产生模块连接到真空注入模块，真空注入模块与装载模块相连接，装载模块与大气传送模块相连接。本发明开创性地将多个离子源装置进行组合，通过拓展线圈和准直线圈得到了所需有效高度的离子束，且离子束的束流宽度较小、离子密度较高，实现了对大尺寸玻璃基板进行离子注入的技术。
基本信息
专利标题 ：
一种大面积靶片用离子注入系统及离子注入方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114300331A
申请号 ：
CN202210138526.0
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2022-02-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈维李加宋开轮蔡春强邝斌杨一赵露
申请人 ：
浙江兴芯半导体有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市海宁市海昌街道海宁经济开发区芯中路8号5幢1层厂房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202210138526.0
主分类号 ：
H01J37/317
IPC分类号 ：
H01J37/317 H01J37/08 H01J37/20 H01J37/304 H01L21/425
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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