离子注入高温靶盘
专利权的终止
摘要

一种离子注入高温靶盘,包括带冷却水槽的靶盘座,靶盘座外周的晶片夹卡机构经支条同靶盘座相连,二点卡子经其连接角块固定在支条外端部,该支条上开有一条凹槽且其中置有移动板,装有硅衬板的支条的凹槽面有盖板,单点卡子固定在移动板的前部,位于所述支条内端部的夹紧弹簧的两端分别同该支条和移动板连接并在该夹紧弹簧的力作用下使移动板朝晶片中心移动;移动板上装有限位钉,支条上还装有位于移动板外端而顶端为斜面的晶片顶柱和可上、下运动的晶片顶杆;二点卡子和单点卡子用高纯硅制作,支条、移动板、盖板及所述各连接角块、螺钉用钼材料制作。本发明能使高温离子注入机在400℃-800℃的高温环境下对半导体晶片进行连续正常注片。

基本信息
专利标题 :
离子注入高温靶盘
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101038850A
申请号 :
CN200610031370.7
公开(公告)日 :
2007-09-19
申请日 :
2006-03-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
贾京英刘咸成王慧勇
申请人 :
中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请人地址 :
410111湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
代理机构 :
长沙正奇专利事务所有限责任公司
代理人 :
马强
优先权 :
CN200610031370.7
主分类号 :
H01J37/317
IPC分类号 :
H01J37/317  H01J37/02  H01L21/265  H01L21/425  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的,如离子注入
法律状态
2020-03-10 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01J 37/317
申请日 : 20060317
授权公告日 : 20090617
终止日期 : 20190317
2009-06-17 :
授权
2007-11-14 :
实质审查的生效
2007-09-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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