大面积大批量均匀注入金属蒸汽真空弧离子注入机
专利权的终止
摘要

一种利用金属离子注入进行材料表面改性处理的大面积大批量均匀注入金属蒸汽真空弧离子注入机。其特征在于至少一台强束流大束斑金属蒸汽真空弧离子源倾斜安装在真空大靶室的顶侧部,靶室内设计有多个水平布置、可灵活运动的靶盘。靶室内一次性可装入大量的待处理工件。靶盘的布置以尽量利用离子束为原则。进行离子注入加工的工件固定在多个水平分布的靶盘上,这些靶盘具有不同的直径和灵活的运动方式。适合处理多种形状的工件。通过调节靶盘在离子束照射下的运动方式,得到均匀的注入效果。

基本信息
专利标题 :
大面积大批量均匀注入金属蒸汽真空弧离子注入机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620139256.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-09-08
授权号 :
CN201089792Y
授权日 :
2008-07-23
发明人 :
吴先映李强刘安东张荟星张孝吉彭建华
申请人 :
北京师范大学
申请人地址 :
100875北京市海淀区新街口外大街19号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200620139256.1
主分类号 :
C23C14/48
IPC分类号 :
C23C14/48  C23C14/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/48
离子注入
法律状态
2010-09-22 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101005920691
IPC(主分类) : C23C 14/48
专利号 : ZL2006201392561
申请日 : 20060908
授权公告日 : 20080723
2008-07-23 :
授权
2008-03-19 :
地址不明的通知
收件人 : 吴先映
文件名称 : 补正通知书
2007-09-26 :
地址不明的通知
收件人 : 吴先映
文件名称 : 补正通知书
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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