一种离子注入设备

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摘要

本实用新型公开了一种离子注入设备，包括对位装置、传送装置、离子注入装置以及相连通的对位腔室和制程腔室，所述离子注入装置与所述制程腔室相连通，其中所述对位装置用于带动所述掩膜板在所述对位腔室内与待掺杂基板进行对位，并在完成对位后将所述掩膜板放置在所述传送装置上以及在完成离子注入后将放置在所述传送装置上的掩膜板取走；所述传送装置用于带动完成对位的所述待掺杂基板和掩膜板一起在所述对位腔室和制程腔室之间移动。该离子注入设备在实现对待掺杂基板精准注入的同时，可避免对离子束造成干涉，离子束也不会造成设备损耗和降低设备的使用寿命。

基本信息

专利标题：

一种离子注入设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922091683.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-28

授权号：

CN210535625U

授权日：

2020-05-15

发明人：

周波林锦辉陈飞郑志雄吴虎

申请人：

信利（仁寿）高端显示科技有限公司

申请人地址：

四川省眉山市仁寿县文林工业园区管委会办公楼一楼

代理机构：

广州粤高专利商标代理有限公司

代理人：

李健威

优先权：

CN201922091683.7

主分类号：

H01J37/317

IPC分类号：

H01J37/317 H01L21/266 H01L21/677 H01L21/68