一种集成电路芯片制造离子注入设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种集成电路芯片制造离子注入设备,涉及集成电路芯片制造技术领域,该集成电路芯片制造离子注入设备包括防尘壳,防尘壳与工作台固定连接,工作台与支撑柱固定连接,支撑柱与感应头固定连接,支撑柱与操作箱固定连接,操作箱内固定安装有感应器终端,操作箱内固定安装有离子发生器,操作箱与红外加热设备固定连接,皮带与滚动轴滚动连接,滚动轴与轴承内圈固定连接,轴承外圈与支撑腿固定连接。该集成电路芯片制造离子注入设备通过皮带上制动片的设置,使托板随着制动片的方向运行,避免了托板在皮带上滑动,通过线性离子枪的设置,配合离子发生器的工作,使托板上的集成电路芯片在经过线性离子枪下方时一次性离子注入完成。

基本信息
专利标题 :
一种集成电路芯片制造离子注入设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022511940.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-11-03
授权号 :
CN215069875U
授权日 :
2021-12-07
发明人 :
朱现芳
申请人 :
杭州云的科技有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市余杭区仓前街道创客空间大厦1幢620室
代理机构 :
成都鱼爪智云知识产权代理有限公司
代理人 :
衡小璐
优先权 :
CN202022511940.0
主分类号 :
H01J37/317
IPC分类号 :
H01J37/317  H01J37/08  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的,如离子注入
法律状态
2021-12-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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