离子注入的监控方法、装置及设备
授权
摘要
本申请公开了一种离子注入的监控方法、装置及设备，该方法包括：使电流测试模块的窗口偏转，电流测试模块设置于离子注入机的质荷筛选器中，窗口用于使述质荷筛选器筛选后的离子束偏转通过；获取监控信息，监控信息包括窗口的偏转角度以及偏转角度对应的电流值，电流值是离子束中的离子通过窗口产生的电流的电流值；根据监控信息计算得到离子束中目标离子的纯度。本申请通过在离子注入设备的质荷筛选器中设置包含窗口的电流测试模块，使窗口偏转且记录偏转角度和偏转角度对应的电流值，基于偏转角度和偏转角度对应的电流值计算得到离子束中目标离子的纯度，从而实现了对离子注入的纯度的实时监控，提高了半导体器件的制造效率。
基本信息
专利标题 ：
离子注入的监控方法、装置及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111933506A
申请号 ：
CN202010817062.7
公开（公告）日 ：
2020-11-13
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
CN111933506B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
马富林郑刚曹志伟
申请人 ：
华虹半导体（无锡）有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区新洲路30号
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
黎伟
优先权 ：
CN202010817062.7
主分类号 ：
H01J37/244
IPC分类号 ：
H01J37/244 H01J37/317 H01J37/304
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/244
检测器；所采用的组件或电路
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2020-12-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/244
申请日 : 20200814
申请日 : 20200814
2020-11-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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