离子注入装置及其控制方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种离子注入装置及其控制方法。所述离子注入装置包括载物部、转动控制部、N个转动部和温控管路，N为大于1的正整数。所述N个转动部顺次活动连接并通信连接所述转动控制部，所述转动控制部控制至少一个所述转动部转动以带动所述载物部进行转动，有利于实现所述载物部的大角度转动；所述温控管路呈螺旋状朝向所述载物部延伸且设置于每个所述转动部，并设置于所述载物部的底部，避免了所述温控管路单次转动过大的角度，有利于降低冷却管开裂以及引起漏液的风险。
基本信息
专利标题 ：
离子注入装置及其控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114284125A
申请号 ：
CN202111659993.X
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
康晓旭
申请人 ：
上海集成电路研发中心有限公司;上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号
代理机构 ：
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黄海霞
优先权 ：
CN202111659993.X
主分类号 ：
H01J37/317
IPC分类号 ：
H01J37/317 H01J37/20
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/317
用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/317
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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