用于离子源的激光对准
专利权的终止
摘要
本发明公开了用于在离子源中对准激光束的装置和方法。其中，安装构件具有第一端、第二端和轴。尖钻被定位在所述轴上，并且可操作连接到所述第一端上。偏置构件被布置来在所述装置被安装在所述离子源上时沿着所述轴推动所述尖钻，以产生用于对准激光束的标记。
基本信息
专利标题 ：
用于离子源的激光对准
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1897217A
申请号 ：
CN200610057076.3
公开（公告）日 ：
2007-01-17
申请日 ：
2006-03-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
琼－鲁克·图克安东尼厄斯·A·范德谷尔史蒂文·马克·小胡配弗雷德里克·罗伯特·蕾
申请人 ：
安捷伦科技有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王安武
优先权 ：
CN200610057076.3
主分类号 ：
H01J49/02
IPC分类号 ：
H01J49/02 H01J49/04 H01J49/10 H01J49/26 G01N30/72
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J49/00
粒子分光仪或粒子分离管
H01J49/02
零部件
法律状态
2022-02-25 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01J 49/02
申请日 : 20060317
授权公告日 : 20100609
终止日期 : 20210317
申请日 : 20060317
授权公告日 : 20100609
终止日期 : 20210317
2010-06-09 ：
授权
2008-05-14 ：
实质审查的生效
2007-01-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
