一种全新离子源产生颗粒的隔离系统
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型涉及一种全新离子源产生颗粒的隔离系统，包括腔室，在所述腔室中设有基片，所述腔室通过管道与离子源连接，所述离子源中的离子发生器发射的离子束作用所述基片，在所述管道上设有阻挡装置，所述阻挡装置能够开启或关闭所述通道。本实用新型通过阻挡装置可以当连接在腔室上的离子发生器进行洗靶时，将飞溅的靶面大颗粒物质阻挡在腔室之外以防止污染被镀基片，达到更加高的镀膜质量。
基本信息
专利标题 ：
一种全新离子源产生颗粒的隔离系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021844065.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-29
授权号 ：
CN212955319U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
时昌茹
申请人 ：
深圳市绿谷离子镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道科技园社区科发路2号30区3栋202-A23
代理机构 ：
宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
涂萧恺
优先权 ：
CN202021844065.1
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-08-03 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 14/34
登记生效日 : 20210721
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 深圳市绿谷离子镀膜科技有限公司
变更后权利人 : 浙江丰望镀膜科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技园社区科发路2号30区3栋202-A23
变更后权利人 : 323000 浙江省丽水市莲都区南明山街道绿谷大道357号
登记生效日 : 20210721
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 深圳市绿谷离子镀膜科技有限公司
变更后权利人 : 浙江丰望镀膜科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技园社区科发路2号30区3栋202-A23
变更后权利人 : 323000 浙江省丽水市莲都区南明山街道绿谷大道357号
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN212955319U.PDF
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