本实用新型涉及一种弧光离子源增强中频磁控溅射装置，用于硬质保护涂层的快速制备。本装置由真空室、磁控溅射装置、弧光离子源和基片架构成，磁控靶垂直安装于真空室侧面，配备有大功率中频开关电源，背面通有循环冷却水；弧光离子源阴极灯丝置于真空室的顶部，阴极灯丝由一个交流电源为灯丝供电，同时接弧电源的阴极，旋转基片架的转轴位于真空室中心，基片竖直放置，基片架下安置电极板，与弧电源的阳极相连接。使用本装置镀膜分为离子清洗和气相沉积两个过程。本装置充分发挥了弧光离子源和磁控溅射的优点，沉积速度快、表面光洁度好，最适合用于氮化铬等硬质保护涂层的快速制备，属于环境友好型替代电镀铬的装置，生产过程无污染。