磁控溅射冷却装置
授权
摘要

本实用新型公开了磁控溅射冷却装置,包括用于冷却靶材的冷却腔室、及与所述冷却腔室连通的冷却介质存储装置,所述冷却腔室设有腔室进口和腔室出口,所述冷却介质存储装置设有冷却介质进口和冷却介质出口,所述腔室进口与所述冷却介质出口之间、所述腔室出口与所述冷却介质进口之间经连通组件连通,所述连通组件包括与所述冷却介质存储装置螺纹连接的第一连接件、经螺母锁紧在所述冷却腔室的第二连接件、转接件、及连接管组件,所述转接件与所述第一连接件经压块和紧固件连接,所述连接管组件一端固定在所述转接件上且另一端固定在所述第二连接件上。本实用新型提供的磁控溅射冷却装置,方便安装和维护。

基本信息
专利标题 :
磁控溅射冷却装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922352297.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-24
授权号 :
CN211713192U
授权日 :
2020-10-20
发明人 :
朱安秋
申请人 :
苏州胜利精密制造科技股份有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区浒关工业园浒泾路55号
代理机构 :
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 :
范晴
优先权 :
CN201922352297.9
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2020-10-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211713192U.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332