离子源设备和方法
专利权的终止
摘要
本发明涉及一种可改进回旋加速器中的离子源寿命和性能的方法和设备。根据一个实施例，本发明包括用于维持其中的等离子体放电的离子源管道(300)。所述离子源管道(300)包括沿所述离子源管道(300)侧面的狭缝开口(310)，其中所述狭缝开口(310)具有小于0.29毫米的宽度。所述离子源管道(300)还包括所述离子源管道(300)端部中的端部开口(314)。所述端部开口(314)小于所述离子源管道(300)的内径且自所述离子源管道(300)的中心轴线(316)朝向所述狭缝开口(310)移动0－1.5毫米。所述等离子体柱相对于所述狭缝开口(310)移动0.2至0.5毫米。所述离子源管道(300)包括适于所述等离子体放电的空腔(312)。本发明还涉及一种用于制造离子源管道(300)的方法。
基本信息
专利标题 ：
离子源设备和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1816243A
申请号 ：
CN200510131760.7
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2005-12-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·O·诺尔林J·－O·贝里斯特伦
申请人 ：
通用电气公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
廖凌玲
优先权 ：
CN200510131760.7
主分类号 ：
H05H13/00
IPC分类号 ：
H05H13/00 H05H1/24 H05G2/00 G21G1/10
法律状态
2021-11-26 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H05H 13/00
申请日 : 20051216
授权公告日 : 20110309
终止日期 : 20201216
申请日 : 20051216
授权公告日 : 20110309
终止日期 : 20201216
2011-03-09 ：
授权
2008-02-13 ：
实质审查的生效
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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