一种装置，包括：电磁辐射源，该电磁辐射源产生用于照射位于光路深度处的样本的辐射，电磁辐射源向样本提供辐射以促进确定样本内的光路深度；干涉仪，该干涉仪包括：参考臂，辐射的第一部分被递送到该参考臂；样本臂，辐射的第二部分被递送到该样本臂；第一光学子系统，该第一光学子系统耦合到样本臂以利用被递送到样本臂的辐射来询问样本并且收集来自样本的反向散射辐射；以及第二光学子系统，该第二光学子系统耦合到参考臂和第一光学子系统，以生成在收集的反向散射辐射与递送到参考臂的辐射之间的干涉条纹；以及数据收集和处理系统，该数据收集和处理系统与干涉仪通信，并且被配置成用于根据接收到的干涉条纹计算样本的光路深度。