通过离子注入预处理技术在镁合金表面制备LDHs膜层的方法
授权
摘要
本发明涉及一种通过离子注入预处理技术在镁合金表面制备LDHs膜层的方法，通过先对镁合金表面进行离子注入预处理制得预处理后的镁合金，之后将镁合金进行退火处理后，浸入配置的LDHs生长溶液中进行原位生长反应，最终在镁合金表面制备得到LDHs膜层；镁合金通过离子注入预处理后，能够大大降低LDHs膜层生长反应条件，有效简化工艺。形成的离子注入改性层和LDHs层相互结合，可使处理后的镁合金耐蚀性得到显著提升。本发明的方法无需在LDHs生长溶液中添加成膜元素成分，能够实现在低温常压下反应。使用本发明方法原位生长的防护膜层与镁合金基体结合力强，耐腐蚀性能好。
基本信息
专利标题 ：
通过离子注入预处理技术在镁合金表面制备LDHs膜层的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113046697A
申请号 ：
CN202110253783.4
公开（公告）日 ：
2021-06-29
申请日 ：
2021-03-09
授权号 ：
CN113046697B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
陈飞窦铮张优曾佳李龙雪
申请人 ：
北京石油化工学院
申请人地址 ：
北京市大兴区清源北路19号
代理机构 ：
北京细软智谷知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
尚文文
优先权 ：
CN202110253783.4
主分类号 ：
C23C14/16
IPC分类号 ：
C23C14/16 C23C14/48 C23C22/60 C23C28/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
C23C14/16
在金属基体或在硼或硅基体上
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-07-16 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/16
申请日 : 20210309
申请日 : 20210309
2021-06-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
