一种用于非常规激光陀螺腔体抛光的快速上盘装置及方法
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摘要
本发明提供了一种用于非常规激光陀螺腔体抛光的快速上盘装置及方法，该上盘装置包括第一微调机构和第二微调机构，第一微调结构用于基准侧面的调整量的确定，第二微调机构用于根据调整量光胶上盘。通过该上盘装置实施激光陀螺腔体在方砖上的上盘，满足了陀螺腔体基准侧面的高效精准抛光，即使激光陀螺腔体省略了前期机械加工和光学加工的穿叉工序，仅加工了一个基准大面，也能够通过后续基准侧面的抛光快速有效实现粘贴面的精确加工，为低成本、小体型和高精度的激光陀螺腔体的高效加工创造了条件。
基本信息
专利标题 ：
一种用于非常规激光陀螺腔体抛光的快速上盘装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113084682A
申请号 ：
CN202110303947.X
公开（公告）日 ：
2021-07-09
申请日 ：
2021-03-22
授权号 ：
CN113084682B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
王锐冯保华王琦张妤
申请人 ：
北京航天时代激光导航技术有限责任公司
申请人地址 ：
北京市海淀区永丰产业基地永捷北路3号A座3层312室
代理机构 ：
中国航天科技专利中心
代理人 ：
陈鹏
优先权 ：
CN202110303947.X
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B27/00 B24B49/00 B24B55/00 B24B41/06
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2021-07-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 29/02
申请日 : 20210322
申请日 : 20210322
2021-07-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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