一种氢化复合物薄膜的制备方法和滤光器
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摘要

本申请提供一种氢化复合物薄膜的制备方法和滤光器,涉及光学薄膜滤光器技术领域,包括在反应室内通入惰性气体和氢气,采用惰性气体形成的等离子体轰击反应室内的至少两种材料和通入的氢气,以使至少两种材料溅射至基片上,并和氢气产生的氢离子反应形成氢化复合物薄膜层。氢化复合物薄膜层至少包括了两种材料,采用溅射技术,将至少两种材料共溅射到同一基片上得到所需的材料性能,可得到700nm‑1800nm波长下折射率大于3.5、消光系数可小于0.005的氢化复合物薄膜层,氢化复合物薄膜对于光的折射率更高,吸收更小,在光线大角度入射的情况下,中心波长随角度偏移量较小,使得以此制备的滤光器的大角度低偏移效应更好。

基本信息
专利标题 :
一种氢化复合物薄膜的制备方法和滤光器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113109898A
申请号 :
CN202110375212.8
公开(公告)日 :
2021-07-13
申请日 :
2021-04-07
授权号 :
CN113109898B
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
王艳智吴永辉卢仁张睿智尧俊陈金龙金利剑刘风雷唐健
申请人 :
浙江水晶光电科技股份有限公司
申请人地址 :
浙江省台州市椒江区星星电子产业区A5号(洪家后高桥村)
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张洋
优先权 :
CN202110375212.8
主分类号 :
G02B5/28
IPC分类号 :
G02B5/28  G02B1/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/20
滤光片
G02B5/28
干涉滤光片
法律状态
2022-05-06 :
授权
2021-07-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/28
申请日 : 20210407
2021-07-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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