一种氢化硅碳氮氧透明超疏水薄膜的制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种氢化硅碳氮氧透明超疏水薄膜的制备方法,包括如下步骤:以高纯甲烷、氨气、笑气和氢气稀释的硅烷混合气为工作气体,通过等离子体增强化学气相沉积技术在玻璃基片表面制备透明氢化硅碳氮氧薄膜;采用PECVD技术以四氟化碳为工作气体对氢化硅碳氮氧薄膜实施等离子体刻蚀。通过上述两步骤便可获得一种具有优异超疏水、自清洁和透明性能的氢化硅碳氮氧薄膜。同时,这种薄膜还具有优异的耐腐蚀、耐磨和耐酸碱性能,并且在玻璃基底表面拥有很好的附着力。本发明公开的这种氢化硅碳氮氧透明超疏水薄膜在太阳能电池板、汽车挡风玻璃、相机镜头、护目镜、智能窗户的疏水防污方面具有很好的应用潜力。

基本信息
专利标题 :
一种氢化硅碳氮氧透明超疏水薄膜的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481087A
申请号 :
CN202210033301.9
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-12
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
姜礼华孙嘉进龚梦天林一凡肖婷向鹏杨雄波谭新玉
申请人 :
三峡大学
申请人地址 :
湖北省宜昌市西陵区大学路8号
代理机构 :
宜昌市三峡专利事务所
代理人 :
成钢
优先权 :
CN202210033301.9
主分类号 :
C23C16/30
IPC分类号 :
C23C16/30  C23C16/505  C23C16/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/30
沉积化合物、混合物或固溶体,例如硼化物、碳化物、氮化物
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/30
申请日 : 20220112
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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