一种彩膜基板及其制作方法和显示面板
授权
摘要

本申请公开了一种彩膜基板及其制作方法和显示面板,所述彩膜基板包括衬底、黑矩阵层和凹槽,所述凹槽设置在所述第一黑矩阵层中,且环绕所述显示区设置;所述凹槽在所述第一黑矩阵层的厚度方向上贯穿所述第一黑矩阵层,且所述凹槽的宽度在10‑360nm之间。本申请通过在彩膜基板非显示区的第一黑矩阵层中设置环形凹槽,使得凹槽将第一黑矩阵层隔断,防止静电通过黑矩阵层传入到显示区;而且本申请中凹槽的宽度在10‑360nm之间,由于可见光的波长范围在380nm‑780nm之间,因此可见光不能够透过凹槽,因此凹槽本身就具备遮光功能;本申请通过在非显示区中的第一遮光层中设置纳米级别的凹槽,使得凹槽同时具备防静电和防遮光的功能,有利于简化彩膜基板中的结构。

基本信息
专利标题 :
一种彩膜基板及其制作方法和显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113219702A
申请号 :
CN202110429466.3
公开(公告)日 :
2021-08-06
申请日 :
2021-04-21
授权号 :
CN113219702B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
王杰邓福林唐榕王立苗张建英康报虹
申请人 :
惠科股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层,6栋七层
代理机构 :
深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
邢涛
优先权 :
CN202110429466.3
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333  G02F1/1335  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2022-06-07 :
授权
2021-08-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20210421
2021-08-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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