一种晶圆冲洗甩干机及清洗甩干方法
实质审查的生效
摘要
本发明属于晶圆加工设备技术领域，具体涉及一种晶圆冲洗甩干机及清洗甩干方法。本发明提供了一种晶圆冲洗甩干机，包括至少一个功能模块和结构组件所述功能模块包括腔体、腔门、所述腔体和腔门相对设置，所述腔体的表面设置有伺服电机、喷水装置、加热装置、静电消除器、电磁阀；采用模块化设计，每个功能模块包含所有功能，结构简单、设计合理、易于生产，每个模块单独控制，独立运行，让其能够根据用户对于腔体个数的需要对其进行组装，形成单腔或者多腔结构，降低了改设备的制作难度和投入成本，让用户有更多的选择空间，从而让其能够更好的满足客户的需要。
基本信息
专利标题 ：
一种晶圆冲洗甩干机及清洗甩干方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114464548A
申请号 ：
CN202110442233.7
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2021-04-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
涂辉
申请人 ：
谷微半导体科技（江苏）有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市开发区星湖大道1692号21(22)幢16008室
代理机构 ：
上海微策知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张静
优先权 ：
CN202110442233.7
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/02 B08B3/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20210423
申请日 : 20210423
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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