一种新的涂敷方锥型微波辐射计定标源单元设计
授权
摘要
本发明公开一种新的涂敷方锥型微波辐射计定标源单元设计，包括定标源座和设置于定标源座上的方锥单元，方锥单元包括若干曲面四方锥；曲面四方锥外侧面涂覆有吸波涂层；吸波涂层为正四棱方锥结构，曲面四方锥和吸波涂层的轴线重合；任意两个相邻曲面四方锥底部固定连接。本发明同时实现了高发射率，特别是宽带高发射率和低温度梯度的优化，进而实现更高更精准的亮温辐射能力。
基本信息
专利标题 ：
一种新的涂敷方锥型微波辐射计定标源单元设计
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113203484A
申请号 ：
CN202110490618.0
公开（公告）日 ：
2021-08-03
申请日 ：
2021-05-06
授权号 ：
CN113203484B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
金铭袁瑞丽李享
申请人 ：
北京化工大学
申请人地址 ：
北京市朝阳区北三环东路15号
代理机构 ：
北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张雪
优先权 ：
CN202110490618.0
主分类号 ：
G01J5/52
IPC分类号 ：
G01J5/52 G01J5/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
G01J5/50
用下列各组指明的技术
G01J5/52
应用与参考源作比较的方法，例如，隐丝高温计
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2021-08-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 5/52
申请日 : 20210506
申请日 : 20210506
2021-08-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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