位移装置

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摘要

本发明公开了一种位移装置，包括支撑体，位移体；两个导向组件，设置于支撑体与位移体间并位于位移体的相对两侧；每个导向组件均包括能沿X轴方向相对位移地设置的多个部分；每个导向组件的各个部分分别与位移体和支撑体固定连接；每个导向组件包括沿X轴方向延伸的多个磁体分布结构，其包括分别设于两个导向组件的各个部分的第一磁体分布结构至第四磁体分布结构，多个磁体分布结构中两两之间相对设置，相互间产生磁浮力以形成磁浮间隙；驱动组件，包括分别固定设于支撑体和位移体并沿X轴方向延伸的定子磁性单元和动子磁性单元，其用于相互磁性作用，以提供对位移体的位移的驱动力，本位移装置能承受较大的负载，并提高了工况环境的洁净度。

基本信息

专利标题：

位移装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113098330A

申请号：

CN202110558842.9

公开（公告）日：

2021-07-09

申请日：

2021-05-21

授权号：

CN113098330B

授权日：

2022-06-07

发明人：

龚威胡兵蒋赟

申请人：

上海隐冠半导体技术有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区南汇新城镇环湖西二路888号C楼

代理机构：

上海上谷知识产权代理有限公司

代理人：

蔡继清

优先权：

CN202110558842.9

主分类号：

H02N15/00

IPC分类号：

H02N15/00