一种可实现靶基因两种剂量表达的基因修饰模型构建方法

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摘要

本发明提供了控制同一靶基因在宿主中以不同剂量进行表达的方法及产品，在插入序列中，外源强启动子两端设置了两个终止元件，每个终止元件两端具有不同的重组酶识别位点序列，当插入到宿主基因组编码外显子之前的内含子之中时，两个终止元件将阻止启动子的功能从而抑制靶基因表达，而通过不同的重组酶控制相应的终止元件及启动子的剔除实现内源启动子或外源强启动子调控的基因低剂量或高剂量表达。

基本信息

专利标题：

一种可实现靶基因两种剂量表达的基因修饰模型构建方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113278651A

申请号：

CN202110587856.3

公开（公告）日：

2021-08-20

申请日：

2021-05-28

授权号：

CN113278651B

授权日：

2022-04-15

发明人：

孙瑞林王津津周宇茅文莹李青

申请人：

上海南方模式生物科技股份有限公司;上海砥石生物科技有限公司;广东南模生物科技有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区半夏路178号2幢2-4层

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

陆惠中

优先权：

CN202110587856.3

主分类号：

C12N15/85

IPC分类号：

C12N15/85 C12N5/10 A01K67/027