一种低活化难熔中熵合金及其制备方法
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摘要
本发明提供一种低活化难熔中熵合金及其制备方法，按照原子比表示为TiaVbHfcTad，其中2.5≤a≤5、0.5≤b≤2.5、2≤c≤3、2≤d≤3，并且满足a+b+c+d＝10，由以下方法制备而成：(1)按照上述比例选取纯Ti、纯V、纯Hf和纯Ta原料，经熔炼浇注或吸铸成铸件或所需铸锭；(2)轧制；(3)铸件或轧制件热处理。本发明制备方的熵合金同时具有较高的强度和优异的塑韧性以及低活化的特性，通过适当调整合金的V含量来进行固溶强化，可以获得从900MPa到1500MPa不同等级的拉伸强度，以及优异的塑性等力学性能，同时在较宽的温度范围内具有稳定的BCC单相固溶体结构，具有良好的轧制加工性能。
基本信息
专利标题 ：
一种低活化难熔中熵合金及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113234986A
申请号 ：
CN202110618583.4
公开（公告）日 ：
2021-08-10
申请日 ：
2021-06-03
授权号 ：
CN113234986B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
张中武蒋文清张洋韩基鸿刘力源
申请人 ：
哈尔滨工程大学
申请人地址 ：
黑龙江省哈尔滨市南岗区南通大街145号哈尔滨工程大学科技处知识产权办公室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202110618583.4
主分类号 ：
C22C30/00
IPC分类号 ：
C22C30/00 C22C1/02 C22C1/03 C22F1/18
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C22
冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理
C22C
合金
C22C30/00
每一种成分的重量都小于50的合金
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2021-08-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C22C 30/00
申请日 : 20210603
申请日 : 20210603
2021-08-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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