黄曲霉素降解检测工艺及装置
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摘要
本发明涉及黄曲霉素降解技术领域，提出了黄曲霉素降解检测工艺，包括取200g‑400g样品进行预处理；在功率为1000W的紫外线灯下对样品进行连续照射；粉碎样品；采用光化学衍生法检测样品降解前后黄曲霉素的含量。通过上述技术方案，解决了现有技术中成本高且易破坏果实籽粒的问题。
基本信息
专利标题 ：
黄曲霉素降解检测工艺及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113295677A
申请号 ：
CN202110621103.X
公开（公告）日 ：
2021-08-24
申请日 ：
2021-06-03
授权号 ：
CN113295677B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
段玉彬
申请人 ：
安国市一方药业有限公司
申请人地址 ：
河北省保定市安国现代中药工业园区二路
代理机构 ：
石家庄领皓专利代理有限公司
代理人 ：
胡英雪
优先权 ：
CN202110621103.X
主分类号 ：
G01N21/75
IPC分类号 ：
G01N21/75 G01N1/44 G01N1/28
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/75
材料在其中经受化学反应的系统，测试反应的进行或结果
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2021-09-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/75
申请日 : 20210603
申请日 : 20210603
2021-08-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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