一种低双折射聚酰亚胺薄膜及其制备方法
授权
摘要
本发明中,提供了一种低双折射聚酰亚胺薄膜及其制备方法,该聚酰亚胺薄膜包括由脂环族二酐、芳香族二酐以及芳香族二酰氯与芳香族二胺缩聚后的聚酰亚胺;其中,所述芳香族二胺至少包括一种含刚性基团的芳香族二胺。本发明所述聚酰亚胺薄膜能够有效降低透明聚酰亚胺取向的各向异性,从而显著减小聚酰亚胺薄膜的双折射。
基本信息
专利标题 :
一种低双折射聚酰亚胺薄膜及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113429785A
申请号 :
CN202110664716.1
公开(公告)日 :
2021-09-24
申请日 :
2021-06-16
授权号 :
CN113429785B
授权日 :
2022-05-20
发明人 :
徐哲刘国隆解惠东邵成蒙
申请人 :
浙江中科玖源新材料有限公司
申请人地址 :
浙江省金华市兰溪市兰江街道兰溪经济开发区光膜小镇
代理机构 :
合肥金律专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
杨霞
优先权 :
CN202110664716.1
主分类号 :
C08L79/08
IPC分类号 :
C08L79/08 C08J5/18 C08G73/10
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L79/00
不包括在C08L61/00至C08L77/00组内的,由只在主链中形成含氮的,有或没有氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物
C08L79/04
在主链中具有含氮杂环的缩聚物;聚酰肼;聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08L79/08
聚酰亚胺;聚酯-酰亚胺;聚酰胺-酰亚胺;聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
法律状态
2022-05-20 :
授权
2021-10-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08L 79/08
申请日 : 20210616
申请日 : 20210616
2021-09-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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