双折射薄膜的制造方法以及该双折射薄膜的应用
授权
摘要
本发明提供一种双折射薄膜的制造方法，是包括拉伸聚合物薄膜的工序的双折射薄膜的制造方法，其特征在于，在宽幅方向上对聚合物薄膜进行拉伸处理的同时在其长幅方向上进行收缩处理，在将拉伸前的聚合物薄膜的宽幅方向的长度和长幅方向的长度分别设为1的情况下，通过拉伸的宽幅方向的长度的变化倍率(STD)与通过收缩的长幅方向的长度的变化倍率(SMD)满足(1/STD) 1/2≤SMD＜1，而且拉伸后的该聚合物薄膜的Nz系数为0.9～1.1。由此，本发明提供一种消除在宽幅方向上拉伸聚合物薄膜制造双折射薄膜时的弯曲现象，在抑制双折射或相位差、取向角的偏差的光学特性方面出色，而且在与偏振光薄膜贴合时可以实现连续贴合的生产效率高的双折射薄膜的制造方法。
基本信息
专利标题 ：
双折射薄膜的制造方法以及该双折射薄膜的应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1758106A
申请号 ：
CN200510108461.1
公开（公告）日 ：
2006-04-12
申请日 ：
2005-10-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
石桥邦昭吉见裕之
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200510108461.1
主分类号 ：
G02F1/1335
IPC分类号 ：
G02F1/1335 G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器或反射器
法律状态
2009-02-11 ：
授权
2006-06-07 ：
实质审查的生效
2006-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
