薄膜及其制造方法

专利权的终止

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摘要

本发明提供一种薄膜，其由下列方法制得：将表面带有羟基的薄膜置于含二羧酸的水槽中并拉伸之。

基本信息

专利标题：

薄膜及其制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1971362A

申请号：

CN200510126741.5

公开（公告）日：

2007-05-30

申请日：

2005-11-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

蔡政欣傅从能林骏宏

申请人：

达信科技股份有限公司

申请人地址：

中国台湾桃园县

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

封新琴

优先权：

CN200510126741.5

主分类号：

G02F1/1335

IPC分类号：

G02F1/1335 G02B5/30

相关图片

IPC结构图谱

G部——物理

G02

光学

G02F

用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器

G02F1/1335

•••••与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器或反射器

法律状态

2021-10-29 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20051121
授权公告日 : 20090701
终止日期 : 20201121

2009-07-01 ：

授权

2007-07-25 ：

实质审查的生效

2007-05-30 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN1971362A.PDF

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