薄膜图案层的制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明涉及一种薄膜图案层的制造方法,其步骤如下:提供一基板,其表面具有多个挡墙,该多个挡墙间形成多个收容空间;通过一喷墨装置将适量的墨水分别填充在该多个收容空间中,并使各收容空间中的墨水的可固化成份的体积与该收容空间的容积相同或相近;干燥固化收容空间中的墨水而形成薄膜图案层。该薄膜图案层的高度与挡墙的高度相同或相近。此制程无需以研磨或蚀刻等方式将挡墙及薄膜层磨平,便可达到所需要的平坦度要求。

基本信息
专利标题 :
薄膜图案层的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101021686A
申请号 :
CN200610007547.X
公开(公告)日 :
2007-08-22
申请日 :
2006-02-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王宇宁许艳惠周景瑜
申请人 :
虹创科技股份有限公司
申请人地址 :
台湾省新竹科学工业园区新竹市工业东四路24-1号4楼
代理机构 :
北京申翔知识产权代理有限公司
代理人 :
周春发
优先权 :
CN200610007547.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G03F7/004  H01L21/00  G02B5/23  B41J2/01  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-05-20 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-10-17 :
实质审查的生效
2007-08-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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