薄膜图案基板、器件的制造方法、电光学装置及电子设备
专利权的终止
摘要
本发明可以通过使在围堰部(B)上形成的线状区域(A)的液体注入部(A1)与液体流动部(A2)的线宽相等，使液体注入部(A1)的功能液(L1)的压力P1与液体流动部(A2)的功能液(L2)的压力P2变得大致相等，在基板(P)上形成凹凸不平少的薄膜图案。由此，本发明提供一种能够精度良好且稳定地形成细线状的微细的膜图案的薄膜图案基板、器件的制造方法、和电光学装置以及电子设备。
基本信息
专利标题 ：
薄膜图案基板、器件的制造方法、电光学装置及电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1769988A
申请号 ：
CN200510118637.1
公开（公告）日 ：
2006-05-10
申请日 ：
2005-11-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
酒井真理平井利充
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李香兰
优先权 ：
CN200510118637.1
主分类号 ：
G02F1/136
IPC分类号 ：
G02F1/136 B05D1/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
法律状态
2015-12-16 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101638244823
IPC(主分类) : G02F 1/136
专利号 : ZL2005101186371
申请日 : 20051101
授权公告日 : 20080514
终止日期 : 20141101
号牌文件序号 : 101638244823
IPC(主分类) : G02F 1/136
专利号 : ZL2005101186371
申请日 : 20051101
授权公告日 : 20080514
终止日期 : 20141101
2008-05-14 ：
授权
2006-07-05 ：
实质审查的生效
2006-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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