按图案制造氧化物超导材料薄膜的方法
视为撤回的专利申请
摘要

一种按图案制造氧化物超导材料薄膜的方法,按此法,运用反应离子和氧化铝或氧化硅掩模,借助于蚀刻的方法制作图案,所说的方法使高精度制作具有线宽小于2μm的图案成为可能,而不采用使超导特性退化的方法,影响超导薄膜的结构。

基本信息
专利标题 :
按图案制造氧化物超导材料薄膜的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1034636A
申请号 :
CN88109216.9
公开(公告)日 :
1989-08-09
申请日 :
1988-12-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
玛丽扎·杰拉达·约瑟法·海曼
申请人 :
菲利浦光灯制造公司
申请人地址 :
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 :
中国专利代理有限公司
代理人 :
肖掬昌
优先权 :
CN88109216.9
主分类号 :
H01L39/24
IPC分类号 :
H01L39/24  H01L21/302  H01B12/06  
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法律状态
1992-02-19 :
视为撤回的专利申请
1990-11-07 :
实质审查请求
1989-08-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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