薄膜图案层的制造方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种薄膜图案层的制造方法，该方法包括下列步骤：提供一具有多个挡墙的基板，该多个挡墙间形成有多个限制空间；将该基板置于一可控制温度的台面上；以一注射装置将墨水注入所选定的限制空间内，并同时控制基板的温度，以使墨水散布于所选定的限制空间内；选择性使该注射装置与基板相对运动，完成所有选定限制空间的墨水涂布以形成薄膜图案层。

基本信息

专利标题：

薄膜图案层的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101021688A

申请号：

CN200610007552.0

公开（公告）日：

2007-08-22

申请日：

2006-02-15

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

许艳惠王宇宁周景瑜

申请人：

虹创科技股份有限公司

申请人地址：

台湾省新竹科学工业园区新竹市工业东四路24－1号4楼

代理机构：

北京申翔知识产权代理有限公司

代理人：

周春发

优先权：

CN200610007552.0

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F7/004 H01L21/00 G02B5/23 B41J2/01

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2016-04-06 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101653678492
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2006100075520
申请日 : 20060215
授权公告日 : 20081224
终止日期 : 20150215

2010-05-12 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101001758418
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2006100075520
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 虹创科技股份有限公司
变更后权利人 : 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 000000 台湾省新竹科学工业园区新竹市工业东四路24-1号4楼
变更后权利人 : 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 鸿海精密工业股份有限公司
登记生效日 : 20100407

2008-12-24 ：

授权

2007-10-17 ：

实质审查的生效

2007-08-22 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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