基板结构及薄膜图案层的制造方法

专利权的终止

摘要

本发明涉及一种基板结构，其包括一个基板及多个形成于该基板上的挡墙，该多个挡墙与基板之间形成多个收容空间。该基板结构进一步包括一层扩散控制层，该扩散控制层位于多个收容空间内的基板上，该扩散控制层能减小填充至该多个收容空间的墨水的扩散速度或扩散范围，而能改善墨水与挡墙间的接触角问题。本发明还涉及一种薄膜图案层的制造方法，其步骤如下：提供一种上述的基板结构；通过一个喷墨装置将墨水填充于该多个收容空间中；干燥固化该收容空间中的墨水而形成薄膜图案层。

基本信息

专利标题：

基板结构及薄膜图案层的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101021631A

申请号：

CN200610007551.6

公开（公告）日：

2007-08-22

申请日：

2006-02-15

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

周景瑜许艳惠陈伟源

申请人：

虹创科技股份有限公司

申请人地址：

台湾省新竹科学工业园区新竹市工业东四路24－1号4楼

代理机构：

北京申翔知识产权代理有限公司

代理人：

周春发

优先权：

CN200610007551.6

主分类号：

G02F1/133

IPC分类号：

G02F1/133 G03F7/00 H01L23/12 B41J2/01

IPC结构图谱

G部——物理

G02

光学

G02F

用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器

G02F1/00

控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学

G02F1/01

对强度、相位、偏振或颜色的控制

G02F1/13

基于液晶的，例如单位液晶显示单元

G02F1/133

构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置

法律状态

2016-04-06 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101653678464
IPC(主分类) : G02F 1/133
专利号 : ZL2006100075516
申请日 : 20060215
授权公告日 : 20090617
终止日期 : 20150215

2010-05-26 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101002219457
IPC(主分类) : G02F 1/133
专利号 : ZL2006100075516
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 虹创科技股份有限公司
变更后权利人 : 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 000000 台湾省新竹科学工业园区新竹市工业东四路24-1号4楼
变更后权利人 : 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 鸿海精密工业股份有限公司
登记生效日 : 20100416

2009-06-17 ：

授权

2007-10-17 ：

实质审查的生效

2007-08-22 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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