基板结构及薄膜图案层的制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种基板结构，其包括一个基板及多个形成在该基板上的挡墙。该多个挡墙及基板间形成多个第一收容空间，第一收容空间用于收容一部喷墨装置喷入的墨水，两相邻的第一收容空间之间的挡墙进一步包括至少一个第二收容空间，第二收容空间用于收容过量填充而从所述第一收容空间溢出的墨水。藉此可避免两相邻第一收容空间内的墨水相混。本发明还涉及一种薄膜图案层的制造方法，其步骤如下：提供一种上述基板结构；通过一部喷墨装置将墨水填充在第一收容空间中；干燥固化第一收容空间中的墨水而形成薄膜图案层。
基本信息
专利标题 ：
基板结构及薄膜图案层的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101021685A
申请号 ：
CN200610007266.4
公开（公告）日 ：
2007-08-22
申请日 ：
2006-02-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周景瑜
申请人 ：
虹创科技股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省新竹科学工业园区新竹市工业东四路24－1号4楼
代理机构 ：
北京申翔知识产权代理有限公司
代理人 ：
周春发
优先权 ：
CN200610007266.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/32 G02F1/133 G02B5/23 B41J2/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-08-12 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-10-17 ：
实质审查的生效
2007-08-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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