地形的渲染方法和装置、电子设备和存储介质
授权
摘要
本申请提供了一种地形的渲染方法和装置、电子设备和存储介质，其中，该方法包括：将多层地形纹理进行混合，得到与多层地形纹理对应的目标虚拟纹理，其中，多层地形纹理为与目标地形对应的地形纹理；获取与目标虚拟纹理对应的目标映射纹理，其中，目标映射纹理用于存储目标虚拟纹理的纹理空间到目标地形的地形空间的对应信息；通过对目标虚拟纹理和目标映射纹理进行采样，在目标帧中渲染出目标地形的地形表面。通过本申请，解决了相关技术中的虚拟纹理的渲染方式存在对设备的渲染性能消耗大的问题。
基本信息
专利标题 ：
地形的渲染方法和装置、电子设备和存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113470092A
申请号 ：
CN202110734501.2
公开（公告）日 ：
2021-10-01
申请日 ：
2021-06-30
授权号 ：
CN113470092B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
段文杰
申请人 ：
完美世界（北京）软件科技发展有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区上地东路1号院5号楼7层701-14
代理机构 ：
北京华夏泰和知识产权代理有限公司
代理人 ：
沈园园
优先权 ：
CN202110734501.2
主分类号 ：
G06T7/40
IPC分类号 ：
G06T7/40 G06T11/60 A63F13/52
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T7/10
分割；边缘检测
G06T7/40
结构分析
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2021-10-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 7/40
申请日 : 20210630
申请日 : 20210630
2021-10-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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