一种均光度校正方法及设备
授权
摘要
本公开提供了一种均光度校正方法及设备，其中，均光度校正方法包括：获取待校正产品的目标图像；对目标图像进行矢量化处理，得到待校正产品对应的第一矢量图像；基于第一矢量图像印刷形成校正层；利用校正层校正待校正产品的均光度。本公开通过对目标图像进行矢量化处理以得到待校正产品对应的第一矢量图像，之后，基于第一矢量图像形成的校正层，并利用校正层校正待校正产品的均光度，可以有预见性的判断待校正产品的校正结果，不仅有效地提高了待校正产品的均光度，还节省了大量的研发时间和研发费用。
基本信息
专利标题 ：
一种均光度校正方法及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113311524A
申请号 ：
CN202110756639.2
公开（公告）日 ：
2021-08-27
申请日 ：
2021-07-05
授权号 ：
CN113311524B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
娄海升王文东张伟
申请人 ：
合肥联宝信息技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦4楼418号
代理机构 ：
北京金信知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩岳松
优先权 ：
CN202110756639.2
主分类号 ：
G02B5/00
IPC分类号 ：
G02B5/00 G02B27/00 G06F30/20 G06T11/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2021-09-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/00
申请日 : 20210705
申请日 : 20210705
2021-08-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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