光扫描电磁波幅度和相位分布快速测量方法及系统
授权
摘要
本发明公开了一种光扫描电磁波幅度和相位分布快速测量方法及系统，利用激光照射下半导体片产生的等离子体斑在待测区域不同位置对未知电磁场的散射，实现对未知电磁场幅度和相位分布的测量，包括：激光光源、光源控制装置、半导体片、接收天线、接收装置和信号处理及控制装置。该方法巧妙利用光致等离子体斑的散射特性和光扫描技术，实现了准确、快速、灵活电磁场幅相特性测量手段。
基本信息
专利标题 ：
光扫描电磁波幅度和相位分布快速测量方法及系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113484620A
申请号 ：
CN202110759705.1
公开（公告）日 ：
2021-10-08
申请日 ：
2021-07-06
授权号 ：
CN113484620B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
白明马辽冷凝
申请人 ：
北京航空航天大学
申请人地址 ：
北京市海淀区学院路37号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202110759705.1
主分类号 ：
G01R29/08
IPC分类号 ：
G01R29/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R29/00
不包括在G01R19/00至G01R27/00各组中的电量的测量或指示装置
G01R29/08
电磁场特性的测量
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2021-10-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01R 29/08
申请日 : 20210706
申请日 : 20210706
2021-10-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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