一种磁控模量平面抛光装置及抛光方法
授权
摘要
本发明涉及一种磁控模量平面抛光装置及抛光方法，抛光装置包括机架、X轴运动模组、Y轴运动模组、Z轴运动模组、主轴电机、抛光头、工作台和控制器；X轴运动模组安装在Y轴运动模组上方，Y轴运动模组均安装在机架底板上，主轴电机安装在Z轴运动模组上，抛光头安装在主轴电机的输出端，工作台安装在X轴运动模组上，工作台位于抛光头下方；抛光头包括磁场发生器和预结构化弹性体抛光片；控制器分别与X轴运动模组、Y轴运动模组、Z轴运动模组、主轴电机和磁场发生器连接；磁场发生器用于调节预结构化弹性体抛光片对待抛光工件的表面进行抛光时的弹性模量和剪切模量，控制器用于控制磁场发生器的磁场强度。本发明提高了抛光精度。
基本信息
专利标题 ：
一种磁控模量平面抛光装置及抛光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113664698A
申请号 ：
CN202111072185.3
公开（公告）日 ：
2021-11-19
申请日 ：
2021-09-14
授权号 ：
CN113664698B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
高春甫周崇秋鄂世举贺新升罗罕频黄平李林峰金泓凯
申请人 ：
浙江师范大学
申请人地址 ：
浙江省金华市婺城区迎宾大道688号
代理机构 ：
北京高沃律师事务所
代理人 ：
韩雪梅
优先权 ：
CN202111072185.3
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B27/02 B24B41/06 B24B47/12 B24B55/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2021-12-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 29/02
申请日 : 20210914
申请日 : 20210914
2021-11-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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