本实用新型涉及抛光片技术领域，且公开了一种硅抛光片清洗装置，包括放置盒体，放置盒体内设置有隔板，放置盒体上设置有声波发生器，声波发生器用于使放置盒体内的清洗剂产生横向波动，放置盒体内还设置有清洁机构，该硅抛光片清洗装置，在放置盒体内还设置有清洁机构，清洁机构在外部装置的驱动下可以在放置盒体内做往复的升降运动，进而使得放置盒体内的液体产生纵向的流动，进而可以从纵向对放置在放置盒体内的抛光片本体进行清洗，提高清洗的效果，需要清洗时，将抛光片本体放置在放置板上，通过外部机构驱动滑动设置在放置盒体内的活动板在放置盒体内做往复循环的升降运动，从而产生纵向流动的水流，进而对抛光片本体进行清洗。