基片处理装置、状态判断方法和计算机存储介质
公开
摘要
本发明涉及基片处理装置、状态判断方法和计算机存储介质，不取决于干扰物的周围的气氛的湿度、温度地准确地进行关于构成基片处理装置的一部分的功能部与干扰物之间的距离的状态的判断。本发明的用于对基片进行处理的基片处理装置包括：构成所述基片处理装置的一部分的功能部；设置于所述功能部的表面的、用于使气体通过的喷嘴；与所述功能部的喷嘴连接的、用于使所述气体流通的喷嘴用流路；测量在所述喷嘴用流路中流动的气体的流量的流量传感器；和基于所述流量传感器的测量结果，进行关于干扰物与所述功能部之间的距离的状态的判断的控制部。
基本信息
专利标题 ：
基片处理装置、状态判断方法和计算机存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114361085A
申请号 ：
CN202111158264.6
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
荒木亮牧准之辅矢野光辉林圣人
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN202111158264.6
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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