紫外光清洁系统和使用方法
公开
摘要
本公开涉及紫外光清洁系统和使用方法。所述清洁系统包括被配置为发射预定波长范围内的紫外(UV)光的UV光源以及对所述预定波长范围具有预定透明度的目标。所述清洁系统还可以包括可去除地联接到所述目标的接触元件。所述UV光源清洁所述目标，所述目标被配置为响应于力被施加到所述目标而引起所述接触元件的运动。所述清洁系统还可以包括一个或更多个反射器或吸收器，所述反射器或吸收器联接到所述目标或所述UV光源或相对于所述目标或所述UV光源设置，以控制UV光的发射。
基本信息
专利标题 ：
紫外光清洁系统和使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114515728A
申请号 ：
CN202111287634.6
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2021-11-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·J·奇尔德雷斯
申请人 ：
波音公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
党晓林
优先权 ：
CN202111287634.6
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B08B13/00 A61L2/10 A61L2/26 A61L2/24
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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