激光等离子体极紫外光源系统及其监控方法
实质审查的生效
摘要

本申请公开了一种激光等离子体极紫外光源系统及其监控方法,系统包括激光源、扫描器、位于一个封闭腔体内的液滴发生器、采集器以及氢气排出管路,还包括位于封闭腔体内的至少一个监控摄像头,且氢气排出管路的入口设置有加热板结构;液滴发生器用于生成锡液滴;激光源用于生成激光脉冲并作用于锡液滴以生成等离子体;采集器用于收集等离子体辐射出的极紫外光线,并将收集的EUV光线聚焦定向到扫描器中;监控摄像头,用于监控生成等离子体过程中所沉积的污染物量,并在污染物量超过预设值时,启动加热板结构的加热功能,以熔化氢气排出管路入口处沉积的污染物,避免由于污染物锡的沉积扰乱腔体内的氢气流,加速采集器污染的问题。

基本信息
专利标题 :
激光等离子体极紫外光源系统及其监控方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114518691A
申请号 :
CN202011307864.X
公开(公告)日 :
2022-05-20
申请日 :
2020-11-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
金成昱金帅炯梁贤石贺晓彬丁明正刘强杨涛杨帆
申请人 :
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
刘广达
优先权 :
CN202011307864.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201119
2022-05-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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