等离子体系统

发明专利申请公布后的驳回

摘要

通过在使处理气体从外壳的入口经过电极流到出口的同时，将射频高压施加在位于介电外壳内的至少一个电极上，来生成混有雾化表面处理剂的非平衡大气压等离子体。施加的电压高到足以生成至少从电极延伸到外壳的出口的非平衡大气压等离子体。电极可以与用于外壳内的表面处理剂的雾化器结合在一起。电极可以包括放射性材料。要处理的表面可以位于等离子体出口附近，使得该表面与等离子体接触并相对于等离子体出口移动。

基本信息

专利标题：

等离子体系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101049054A

申请号：

CN200580037079.4

公开（公告）日：

2007-10-03

申请日：

2005-11-03

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

利亚姆·奥奈尔彼得·杜宾弗兰克·斯沃格斯图尔特·利德利

申请人：

陶氏康宁爱尔兰有限公司

申请人地址：

爱尔兰科克

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

康建忠

优先权：

CN200580037079.4

主分类号：

H05H1/24

IPC分类号：

H05H1/24