等离子体产生系统
授权
摘要
本发明提供能够更准确地计测出向被处理体照射的等离子体气体的实际温度的等离子体产生系统。等离子体产生系统具备：照射头，向设于反应室的电极供给电力而产生使处理气体等离子体化的等离子体气体，并将产生的等离子体气体向被处理体照射；及温度传感器，检测等离子体气体的温度，并输出与检测出的温度对应的检测信号。温度传感器配置在从照射头的照射等离子体气体的照射口离开的位置，并由照射头照射等离子体气体。照射头构成为能够在被处理体与温度传感器之间移动。
基本信息
专利标题 ：
等离子体产生系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110463354A
申请号 ：
CN201780089052.2
公开（公告）日 ：
2019-11-15
申请日 ：
2017-04-04
授权号 ：
CN110463354B
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
神藤高广池户俊之
申请人 ：
株式会社富士
申请人地址 ：
日本爱知县知立市
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
杨青
优先权 ：
CN201780089052.2
主分类号 ：
H05H1/00
IPC分类号 ：
H05H1/00 H05H1/26
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法律状态
2022-05-13 ：
授权
2020-04-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05H 1/00
申请日 : 20170404
申请日 : 20170404
2019-11-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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