等离子体产生装置
专利权的终止
摘要
一种等离子体产生装置包括：一腔室，其具有一腔室盖并界定一气密反应区域；一在所述腔室中的基座；一气体供应构件，其将一制程气体供应到所述腔室；和一环形铁芯，其穿过所述腔室盖相对于所述基座垂直设置，所述环形铁芯包含：一与所述腔室相组合的环形铁磁芯，所述环形铁磁芯具有一在所述腔室外的第一部分和一在所述腔室内的第二部分，所述第二部分具有一开口部分；一连接到所述腔室的射频(RF)电源；一电连接到所述RF电源的感应线圈，所述感应线圈卷绕所述第一部分；和一匹配电路，其匹配所述RF电源与所述感应线圈之间的一阻抗。
基本信息
专利标题 ：
等离子体产生装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1822745A
申请号 ：
CN200610008302.9
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2006-02-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
权基中李尚元伍赛宪金宰贤洪宝翰李英关
申请人 ：
周星工程股份有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王允方
优先权 ：
CN200610008302.9
主分类号 ：
H05H1/46
IPC分类号 ：
H05H1/46 H05H1/30 H01J37/32 H01L21/00
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法律状态
2019-02-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H05H 1/46
申请日 : 20060217
授权公告日 : 20120418
终止日期 : 20180217
申请日 : 20060217
授权公告日 : 20120418
终止日期 : 20180217
2012-04-18 ：
授权
2008-04-16 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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