微波等离子体的产生方法和装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
微波等离子体的产生方法和装置，涉及到微波产生低温等离子体的技术，适用于薄膜加工和材料处理等。本发明在等离子体反应室和谐振腔外设置一对稀土永磁铁，在等离子体区形成横向“磁瓶”场，对带电粒子形成三维封闭约束，并产生电子回旋共振所需的磁场区域。由磁控管产生的微波能量直接耦合到谐振腔中使反应室中的气体离化形成等离子体。对多种气体包括反应气体，能在一个大气压到2×10-4Torr气压下产生微波等离子体。
基本信息
专利标题 ：
微波等离子体的产生方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1055275A
申请号 ：
CN90105790.8
公开（公告）日 ：
1991-10-09
申请日 ：
1990-03-23
授权号 ：
CN1028588C
授权日 ：
1995-05-24
发明人 ：
郭华聪
申请人 ：
四川大学
申请人地址 ：
610064四川省成都市九眼桥
代理机构 ：
四川大学专利事务所
代理人 ：
刘金蓉
优先权 ：
CN90105790.8
主分类号 ：
H05H1/46
IPC分类号 ：
H05H1/46
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法律状态
1996-05-08 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1995-05-24 ：
授权
1992-07-08 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-10-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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